隨著生產工藝對物料、介質的純度要求不斷提高，首先催生了不純物控制技術的發展，后以該技術為核心逐步演化成了——高純工藝系統，實現了整個生產過程的不純物控制。和傳統的制造業相比，泛半導體等現代制造業自誕生那刻起就一直朝精密化、微型化方向發展。從第一個晶體管到7納米的華為麒麟980，制程中的精細加工、精細控制一直是生產工藝的關鍵環節，而在幾乎所有和"精細"相關的技術中，都繞不開“雜質”兩個字。雜質的危害性在泛半導體等現代制造業中，雜質對制程的結果都會產生不利甚至極為有害的影響。比如：在極低溫度（-270℃）下，微量的氧和水會變成堅硬無比的固體，成為透平機的天敵；在手術中少量的病菌會產生致命的影響；微量的特種元素會改變鋼鐵的性能；空氣中懸浮的顆粒會影響精密加工儀器（陀螺儀）的性能；百萬分之一以下的氧水含量會使大量的大規模集成電路芯片報廢。高純工藝系統的發展不僅實現了對雜質的控制，還能讓高純介質不會因吸附氣體和水分、脫放氣、產生顆粒等原因受到污染，保證介質純度，使介質滿足生產工藝的純度要求。從上面的簡單描述中，想必你已經明白雜質在和"精細"相關的技術中的危害性是巨大的。高純工藝系統能實現對整個生產過程的不純物控制。最后，感謝您的閱讀！